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Charakterisierung von CVD/ALD Schichten mit Impedanzsensorik

Event
10. Dresdner Sensor-Symposium 2011
2011-12-05 - 2011-12-07
Dresden
Chapter
Innovative Sensorlösungen II
Author(s)
K. Hasche, M. Hintz, S. Völlmeke, A. Steinke, I. Tobehn - Erfurt
Pages
233 - 236
DOI
10.5162/10dss2011/12.9
ISBN
978-3942710-53-4
Price
free

Abstract

Am CiS entwickeln wir eine zerstorungsfreie und letztendlich auch beruhrungsfreie Methode, CVD und ALD Schichten, wie sie z.B. im Herstellungsprozessen der Halbleiterindustrie etabliert sind, im Herstellungsprozess zu monitoren und sie bezuglich ihrer Dicken bzw. relativen Permittivitaten zu scannen.
Hierzu verwenden wir modifizierte Interdigitalstrikturen mit wenigen μm Abstand, deren Herstellung das CiS schon lange beherscht – z.B. zur Produktion von Feuchtesensoren.

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